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SI 591RIE反應離子刻蝕PX 2773
FPTOR-EB-4P電子束蒸發系統,EB-4P電子shu沉積系統PX 3549
ELS-F125/F100/HS50電子束曝光系統PX 2408
Gatan SmartEMIC電子束感應電流測量系統PX 2716
RAITH-EBPG5150電子束直寫系統 EBPG5150PX 2773
亞科多功能電子束曝光系統PIONEER TwoPX 2773
亞科RAITH多功能電子束曝光系統eLINE PlusPX 2773
亞科Electron Beam Lithography System(EBL)PX 2773
CRESTEC超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)PX 2773
CRESTEC電子束直寫系統 CABL-9000C seriesPX 2773
CRESTEC電子束光刻系統PX 2773
IH-860DSICSiC用高溫離子注入設備 IH-860DSICPX 2773
NE-550NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置PX 2773
NE-550ICP 刻蝕機 :高密度等離子蝕刻裝置NE-550PX 2773
Trion等離子蝕刻ICPPX 0
SESAME 777CuIC酸開封機自動decap芯片去封裝失效分析PX 0
ELOPREP電解拋光蝕刻機/英國KEMET進口全自動電解拋光和蝕刻設備PX 0
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其它實驗室常用設備
電子束蒸發系統,EB-4P電子shu沉積系統
電子束曝光系統
電子束直寫系統 EBPG5150
多功能電子束曝光系統PIONEER Two
RAITH多功能電子束曝光系統eLINE Plus
Electron Beam Lithography System(EBL)
超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)
電子束直寫系統 CABL-9000C series
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